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GVC-1000小型离子溅射仪
主要适用于扫描电镜镀覆导电膜,仪器操作简单方便,是样品制备所必备的仪器。适用的靶材:金、铂、金钯合金、银、铅、铜、铬、锑等
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SBC-12小型离子溅射仪
本仪器主要适用于扫描电镜镀覆导电膜,仪器操作简单方便,是样品制备所必备的仪器。适用的靶材:金、铂、铬、银、钛、铜、镍、金钯合金等
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VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪
VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子薄膜溅射仪(直流普通型),控制面板采用触摸屏模式,基片极限尺寸为2″,放置样品的直径为Ø50mm,加热温度达500℃。
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VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪
产品简介:VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪靶头尺寸为2英寸,且样品台的高度可以调节。此款镀膜仪设计主要是制作一些金属薄膜,最大制膜面积为4英寸。 产品型号VTC-16-D小型直流磁控等离子
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BRIGHT KAS-2000F 离子溅射仪
KAS-2000F离子溅射是布莱特公司针对SEM/TEM开发出的zei新产品,它可以对不导电样品进行喷镀,使导电性不理想的样品也能够在SEM/TEM中进行观测。
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全自动磁控离子溅射仪 GVC-2000
液晶显示屏简便操作、自动抽真空做样、自动放气、溅射电流范围大、溅射效率高、颗粒度小、样品表面无温升,适用温度敏感性样品等特点,可适用金、铂、银、钛、铬、铝、铜、铅等常用靶材。
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VTC-600G高真空磁控溅射仪
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VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪
产品简介:VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪,包含一个2英寸水冷靶头(另有1英寸靶头可选)和可旋转样品台。水冷靶头使镀膜后的样品表面不会因镀膜温度过高而变形
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VTC-1RF-SPC磁控溅射蒸发镀膜仪
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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
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